ASML e TSMC assinam acordo para desenvolver fotomáscaras para fabricação de chips

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A iniciativa visa o desenvolvimento de uma linha-piloto para as máscaras de 12 polegadas até 2031, com prontidão total para a produção de nós avançados até 2033 ASML e TSMC assinam acordo para desenvolver fotomáscaras para fabricação de chips

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